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टाइटेनियम लक्ष्य मिश्र के आवेदन क्षेत्र क्या हैं?

Sep 09, 2025

टाइटेनियम लक्ष्यआज के उद्योग और केमिकल इंजीनियरिंग में सामग्री का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। आज, आइए विशेष रूप से टाइटेनियम लक्ष्य ब्लॉकों के अनुप्रयोगों का पता लगाएं।

 

A. औद्योगिक विनिर्माण क्षेत्र ‌

1। पीवीडी कोटिंग तकनीक ‌

टाइटेनियम लक्ष्य मिश्र धातु, भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) की मुख्य सामग्री के रूप में, उच्च - प्योरिटी टाइटेनियम फिल्मों को स्पटरिंग या वाष्पीकरण प्रक्रियाओं के माध्यम से उत्पन्न करता है, जो व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर चिप्स, ऑप्टिकल मिरर कोटिंग्स की प्रवाहकीय परतों में उपयोग किए जाते हैं, और हार्ड कटिंग टूल की सतह की मजबूतता।

रिंग - के आकार का टाइटेनियम लक्ष्य को घुमाने वाले मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग उपकरणों के साथ संगत होने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो फिल्म की एकरूपता में 20% से 30% तक सुधार करता है और अर्धचालक उपकरणों की प्रतिरोधकता को कम करता है।

2। प्रदर्शन और ऑप्टिकल डिवाइस ‌ ‌

उच्च - शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री का उपयोग OLED डिस्प्ले पैनल में इलेक्ट्रोड लेयर डिपॉजिट के लिए किया जाता है, और उनकी कम प्रतिरोध विशेषताओं से स्क्रीन की बिजली की खपत कम हो सकती है।

टाइटेनियम - एल्यूमीनियम कम्पोजिट टारगेट सामग्री एआर/वीआर उपकरणों की ऑप्टिकल कोटिंग आवश्यकताओं को पूरा करते हुए, घटकों के अनुपात को समायोजित करके विशिष्ट अपवर्तक सूचकांकों के साथ ऑप्टिकल फिल्मों को उत्पन्न कर सकती है।

3। उच्च - तापमान औद्योगिक कोटिंग

टाइटेनियम - निकेल - Zirconium मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री से गठित कोटिंग 1200 डिग्री तक तापमान का सामना कर सकती है। जब एयरो इंजन ब्लेड के लिए थर्मल बैरियर कोटिंग के रूप में उपयोग किया जाता है, तो इसकी सेवा जीवन को तीन बार से अधिक समय तक बढ़ाया जाता है।

 

बी ऊर्जा और पर्यावरण संरक्षण क्षेत्र ‌

1.solar सेल ‌

टाइटेनियम - एल्यूमीनियम समग्र लक्ष्य सामग्री का उपयोग फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के बैक इलेक्ट्रोड के लिए फोटोइलेक्ट्रिक रूपांतरण दक्षता को बढ़ाने के लिए किया जाता है।

पेरोव्साइट सौर कोशिकाओं के इलेक्ट्रॉन परिवहन परत के रूप में टाइटेनियम फिल्मों को स्पटरिंग करना चार्ज पुनर्संयोजन दर को काफी कम कर देता है।

2। परमाणु ऊर्जा उपकरण ‌: टाइटेनियम - Zirconium मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री का उपयोग परमाणु रिएक्टर नियंत्रण छड़ के नियंत्रण गोले के निर्माण के लिए किया जाता है। न्यूट्रॉन अवशोषण क्रॉस - अनुभाग को अनुकूलित करने के बाद, महत्वपूर्ण सुरक्षा मार्जिन में 15%की वृद्धि हुई है।

 

सी। उभरते हुए क्षेत्र अनुप्रयोग ‌

लचीला इलेक्ट्रॉनिक्स ‌: अल्ट्रा - पतले टाइटेनियम लक्ष्यों का उपयोग रोल - से - रोल स्पटरिंग प्रक्रिया के माध्यम से लचीले सर्किट के लिए प्रवाहकीय परतों को तैयार करने के लिए किया जाता है, जिसमें 100,000 से अधिक बार झुकने वाले जीवन के साथ;

हाइड्रोजन एनर्जी कैटालिसिस:: टाइटेनियम - रूथेनियम मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री का उपयोग करके पानी के इलेक्ट्रोलिसिस के माध्यम से हाइड्रोजन उत्पादन की उत्प्रेरक दक्षता 85%तक पहुंच जाती है।

 

डी। तकनीकी विकास की प्रवृत्ति

1। समग्र डिजाइन ‌: बहु - घटक लक्ष्य सामग्री जैसे कि टाइटेनियम - एल्यूमीनियम और टाइटेनियम - निकेल - Zirconium का अनुपात बढ़ गया है, और 2025 तक 48% तक पहुंचने की उम्मीद है।

2। इंटेलिजेंट मैन्युफैक्चरिंग ‌: लेजर 3 डी प्रिंटिंग टेक्नोलॉजी अनियमित - आकार के टाइटेनियम लक्ष्यों के तेजी से प्रोटोटाइपिंग को सक्षम बनाती है।

 

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