निकेल 200 हेक्सागोन बोल्ट का संक्षिप्त परिचय
निकल 200 बाहरी हेक्सागोनल स्क्रू (N200 निकल बोल्ट) निकल मिश्र धातु से बने होते हैं और संक्षारण और उच्च तापमान प्रतिरोध प्रदान करते हैं।
सामान्य विशिष्टताएँ इस प्रकार हैं:
सामान्य विशिष्टताएँ नाममात्र व्यास: M4-M12 (उदाहरण के लिए, M6 x 1.0, जहाँ M6 6 मिमी के नाममात्र व्यास का प्रतिनिधित्व करता है और 1.0 1.0 मिमी की थ्रेड पिच का प्रतिनिधित्व करता है)।
लंबाई: आमतौर पर 10-60 मिमी (उदाहरण के लिए, एम6 बोल्ट 10, 15, 20, 30, 40, 50 और 60 मिमी की लंबाई में उपलब्ध हैं)।
शक्ति ग्रेड: 8.8 (तन्य शक्ति 800एमपीए, उपज शक्ति 640एमपीए) या 10.9 (उच्च शक्ति)।
निकल मिश्र धातु (जैसे Ni201 निकल) से बना, निकल सामग्री 99.5% तक है, उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और उच्च तापमान प्रतिरोध के साथ, रसायन, मशीनरी, विमानन और अन्य क्षेत्रों के लिए उपयुक्त है। उनमें से अधिकांश का उपयोग उच्च सामग्री आवश्यकताओं जैसे जहाज, रासायनिक उपकरण और बिजली सुविधाओं वाले दृश्यों में किया जाता है।
निकेल 200 सामग्री की परिभाषा
शुद्ध निकल, Ni200, व्यावसायिक रूप से शुद्ध (99.6%) गढ़ा हुआ निकल है, जिसे आमतौर पर UNS N02200/W.Nr. 2.4060 और 2.4066 नामित किया जाता है। यह वाणिज्यिक क्षेत्र में महत्वपूर्ण स्थान रखता है। Ni200 के अद्वितीय भौतिक और रासायनिक गुण इसे कई उद्योगों में एक अनिवार्य सामग्री बनाते हैं। इसकी रासायनिक संरचना में 99.0% निकल की उच्च निकेल (प्लस कोबाल्ट) सामग्री होती है, जबकि तांबा, लोहा, मैंगनीज, कार्बन, सिलिकॉन और सल्फर जैसे अन्य तत्वों की सामग्री को बेहद कम सीमा के भीतर रखा जाता है, जिससे इसका असाधारण प्रदर्शन सुनिश्चित होता है।
भौतिक गुणों के संदर्भ में, Ni200 में उच्च तापीय और विद्युत चालकता, कम गैस सामग्री और कम वाष्प दबाव है। इसमें कमरे के तापमान पर अच्छी मरोड़ और कतरनी ताकत होती है और यह उच्च रॉकवेल कठोरता का सामना कर सकता है। हालाँकि, उच्च तापमान पर इसकी ताकत कम हो जाती है।
यांत्रिक गुणों के संदर्भ में, Ni200 अच्छा प्रदर्शन करता है। उदाहरण के लिए, एनील्ड अवस्था में, इसमें कम कार्बन स्टील के समान ताकत होती है, उपज ताकत (KSI) 15 से अधिक या उसके बराबर, तन्य शक्ति (KSI) 55 से अधिक या उसके बराबर, और बढ़ाव (%) 40 से अधिक या उसके बराबर होती है।
Ni200 का व्यापक रूप से व्यावसायिक अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है। अपने उत्कृष्ट प्रदर्शन के कारण, यह खाद्य प्रसंस्करण, सिंथेटिक फाइबर विनिर्माण और कास्टिक सोडा प्रसंस्करण सहित उद्योगों की एक विस्तृत श्रृंखला में उत्पाद की शुद्धता बनाए रखने के लिए एक आदर्श विकल्प है। यह संरचनात्मक अनुप्रयोगों में भी उत्कृष्ट प्रदर्शन प्रदर्शित करता है जहां संक्षारण प्रतिरोध की अत्यधिक मांग है।
निकेल 200 हेक्सागोन बोल्ट के भौतिक गुण
शुद्ध निकल (Ni200) का घनत्व लगभग 8.89 ग्राम/सेमी³, उच्च गलनांक 1440 डिग्री और थर्मल विस्तार का कम गुणांक है। इसमें उत्कृष्ट चुंबकीय गुण हैं, जो इसे उच्च चुंबकीय पारगम्यता और कम हिस्टैरिसीस हानि के साथ एक नरम चुंबकीय सामग्री बनाता है। यह प्रभावी ढंग से चुंबकीय क्षेत्र को अवशोषित और उत्पन्न करता है, जिससे इसे चुंबकीय सामग्री, विद्युत चुम्बकीय उपकरण और इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। यांत्रिक रूप से, यह एक उच्च लोचदार मापांक और उपज शक्ति प्रदर्शित करता है, जो इसे महत्वपूर्ण तनाव और विरूपण का सामना करने की अनुमति देता है, जिससे यह उच्च परिशुद्धता घटकों और भागों के निर्माण के लिए उपयुक्त हो जाता है। इसकी उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता इसे उच्च तापमान वाले वातावरण में स्थिर प्रदर्शन बनाए रखने की अनुमति देती है और ऑक्सीकरण और संक्षारण के लिए प्रतिरोधी है, जिससे इसे आमतौर पर उच्च तापमान वाले उपकरण और रासायनिक उद्योग में उपयोग किया जाता है। इसकी उच्च विद्युत चालकता इसे प्रभावी ढंग से करंट संचालित करने की अनुमति देती है, जिससे यह इलेक्ट्रोड, तार और विद्युत चुम्बकीय कॉइल जैसे इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए एक लोकप्रिय विकल्प बन जाता है।
निकेल 200 हेक्सागोन बोल्ट के रासायनिक गुण
शुद्ध Ni 200 निकल मुख्य रूप से 99.6% से अधिक निकल से बना है। तांबा, लोहा, मैंगनीज, कार्बन, सिलिकॉन और सल्फर जैसे अशुद्ध तत्वों को बेहद निम्न स्तर तक सख्ती से नियंत्रित किया जाता है। तांबा आमतौर पर 0.25% से अधिक नहीं होता है, लोहा 0.4% से अधिक नहीं होता है, मैंगनीज 0.35% से अधिक नहीं होता है, कार्बन 0.15% से अधिक नहीं होता है, सिलिकॉन 0.35% से अधिक नहीं होता है, और सल्फर 0.01% से अधिक नहीं होता है। यह कठोर रासायनिक संरचना नियंत्रण शुद्ध Ni200 निकल के बेहतर प्रदर्शन को सुनिश्चित करता है। रासायनिक वातावरण में, Ni200 उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शित करता है, एसिड, क्षार और लवण सहित विभिन्न संक्षारक मीडिया के हमले का विरोध करता है। यह कम से मध्यम तापमान पर सल्फ्यूरिक एसिड और 30% तक हाइड्रोक्लोरिक एसिड सांद्रता का सामना कर सकता है, जो रासायनिक उद्योग और समुद्री इंजीनियरिंग में उत्कृष्ट है।
निकेल 200 हेक्सागोन बोल्ट के अनुप्रयोग क्षेत्र
निकेल 200 हेक्सागोन बोल्ट
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इलेक्ट्रानिक्स
शुद्ध निकल Ni200 इलेक्ट्रॉनिक्स क्षेत्र में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है। एक अवरोधक तार के रूप में, यह स्थिर प्रतिरोध प्रदान करता है और विभिन्न तापमानों पर उत्कृष्ट विद्युत गुण बनाए रखता है। प्रतिरोधों में, यह करंट और वोल्टेज को सटीक रूप से नियंत्रित करता है। तापमान सेंसर अनुप्रयोगों में, इसका उत्कृष्ट तापमान गुणांक विस्तृत तापमान रेंज में सटीक माप परिणाम सक्षम बनाता है। इलेक्ट्रॉनिक चिप निर्माण में, Ni200 बेहतर चिप स्थिरता और विश्वसनीयता में योगदान देता है, और पेट्रोलियम, रसायन और बिजली उत्पादन जैसे उद्योगों में उच्च तापमान वाले वातावरण में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।
02
रसायन उद्योग
शुद्ध निकल Ni200 रासायनिक उद्योग में असाधारण रूप से अच्छा प्रदर्शन करता है। रिएक्टर निर्माण में, इसका उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और उच्च तापमान प्रतिरोध सुरक्षित और स्थिर रासायनिक प्रतिक्रिया सुनिश्चित करता है। इलेक्ट्रॉन गन अनुप्रयोगों में, यह उच्च तापमान और मजबूत विद्युत चुम्बकीय क्षेत्रों का सामना कर सकता है। सोडियम क्लोराइड जैसे अत्यधिक संक्षारक मीडिया के भंडारण कंटेनरों के लिए, Ni200 प्रभावी रूप से रासायनिक संक्षारण और उच्च तापमान ऑक्सीकरण का प्रतिरोध करता है, जिससे मीडिया की शुद्धता और सुरक्षा सुनिश्चित होती है।
03
एयरोस्पेस और सैन्य उद्योग
शुद्ध निकल Ni200 एयरोस्पेस और सैन्य उद्योगों में महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है। Ni200 से बने एयरोस्पेस रॉकेट नोजल उच्च तापमान, उच्च गति वायु प्रवाह का सामना करने में सक्षम हैं, जिससे सामान्य रॉकेट प्रणोदन सुनिश्चित होता है। मिसाइल इंजनों में, इसका उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रदर्शन और विकिरण प्रतिरोध चरम स्थितियों में स्थिर संचालन सुनिश्चित करता है। परमाणु रिएक्टर जैसे प्रमुख घटक Ni200 का उपयोग करते हैं, जो मजबूत विकिरण और उच्च तापमान, उच्च दबाव वाले वातावरण का सामना कर सकते हैं, जिससे सुरक्षित और नियंत्रणीय परमाणु प्रतिक्रियाएं सुनिश्चित होती हैं।
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