सतह उपचार प्रक्रियाओं का चयनटाइटेनियम मिश्रऑक्साइड परत की संरचनात्मक विशेषताओं पर सख्ती से आधारित होना चाहिए, जो सामग्री के थर्मल प्रसंस्करण इतिहास द्वारा निर्धारित की जाती हैं। डीस्केलिंग विधियों जैसे यांत्रिक, नमक स्नान और एसिड पिकलिंग को उचित रूप से संयोजित करके {{2}और प्रत्येक प्रक्रिया चरण के मापदंडों को सटीक रूप से नियंत्रित करके, ऑक्साइड स्केल और ऑक्सीजन समृद्ध प्रसार परत को प्रभावी ढंग से हटाना संभव है, जिससे बाद के कोटिंग या प्रत्यक्ष उपयोग के लिए विश्वसनीय सतह की गुणवत्ता सुनिश्चित होती है।
I. भूतल उपचार की आवश्यकता और अनुप्रयोग: मध्यवर्ती ताप उपचार प्रक्रियाओं के दौरान और टाइटेनियम और टाइटेनियम मिश्र धातुओं के अंतिम ताप उपचार के बाद, निम्नलिखित उद्देश्यों को प्राप्त करने के लिए सतह उपचार की आमतौर पर आवश्यकता होती है:
1. सतह की सफाई: उच्च तापमान हीटिंग या मशीनिंग के दौरान उत्पन्न धातु स्केल और विभिन्न संदूषकों को हटाने के लिए।
2. सतह की प्रतिक्रियाशीलता को कम करना: उजागर धातु की सतह की रासायनिक प्रतिक्रियाशीलता को कम करना और बाद के प्रसंस्करण या सेवा के दौरान संदूषण को रोकना।
3. कोटिंग के लिए पूर्व {{1}उपचार: सुरक्षात्मक या कार्यात्मक कोटिंग्स (जैसे संक्षारण प्रतिरोधी, उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोधी, और घिसाव प्रतिरोधी कोटिंग्स) के आवेदन से पहले और उसके दौरान, उचित सब्सट्रेट सतह की स्थिति प्राप्त करने के लिए सतह उपचार का उपयोग किया जाता है, जिससे कोटिंग आसंजन और सेवा प्रदर्शन में वृद्धि होती है। द्वितीय. ऑक्साइड परत और ऑक्सीजन के तंत्र -समृद्ध प्रसार परत निर्माण टाइटेनियम छड़ों और उनके मिश्र धातुओं के लिए एसिड पिकलिंग की स्थिति मुख्य रूप से उनकी सतह ऑक्साइड परत और सब्सट्रेट पर आसन्न प्रतिक्रिया परत के प्रकार और विशेषताओं पर निर्भर करती है; ये दोनों उच्च तापमान हीटिंग प्रक्रियाओं और हॉट वर्किंग ऑपरेशन (जैसे फोर्जिंग, कास्टिंग और वेल्डिंग) के दौरान तापमान प्रोफाइल से महत्वपूर्ण रूप से प्रभावित होते हैं। · कम तापमान या कम तापमान (लगभग 600 डिग्री से नीचे): सतह पर केवल एक पतली ऑक्साइड फिल्म बनती है; इस फिल्म में अपेक्षाकृत छिद्रपूर्ण संरचना होती है और इसे आम तौर पर पारंपरिक एसिड अचार के माध्यम से भंग और हटाया जा सकता है। · उच्च तापमान ताप (लगभग 600 डिग्री से ऊपर): न केवल एक मोटी, घनी ऑक्साइड परत बनती है, बल्कि इसके नीचे एक ऑक्सीजन समृद्ध प्रसार क्षेत्र (यानी, ऑक्सीजन स्थिर परत) भी विकसित होता है। यह प्रसार परत कठोर है, इसमें लचीलापन कम है, और यह अपेक्षाकृत रासायनिक रूप से स्थिर है; इसे एसिड अचार के माध्यम से पूरी तरह से हटा दिया जाना चाहिए, अन्यथा यह बाद के प्रसंस्करण और उत्पाद की सेवा जीवन को गंभीर रूप से प्रभावित करेगा। तृतीय. ऑक्साइड स्केल (डीस्केलिंग) को हटाने के लिए सामान्य तरीके विभिन्न मोटाई और संरचनाओं की ऑक्साइड परतों के लिए, निम्नलिखित तीन मुख्य प्रकार की डीस्केलिंग विधियां मुख्य रूप से उद्योग में उपयोग की जाती हैं:
1. यांत्रिक डीस्केलिंग: मोटी देशी स्केल और कठोर सतह परतों को हटाने के लिए उपयुक्त; विधियों में सैंडब्लास्टिंग, शॉट ब्लास्टिंग या ग्राइंडिंग शामिल हैं। यह विधि अत्यधिक कुशल है लेकिन, जब अकेले उपयोग किया जाता है, तो सब्सट्रेट सतह से सूक्ष्म ऑक्सीजन समृद्ध परत को पूरी तरह से हटाने में कठिनाई होती है।
2. पिघला हुआ नमक स्नान डीस्केलिंग: वर्कपीस को उच्च तापमान वाले पिघले नमक स्नान (जैसे क्षार स्नान) में डुबोया जाता है, जहां रासायनिक संलयन के कारण स्केल ढीला हो जाता है और परत निकल जाती है। यह विधि जटिल आकृतियों वाले वर्कपीस से मोटे स्केल को हटाने के लिए अत्यधिक प्रभावी है।
3. एसिड पिकलिंग: स्केल और ऑक्सीजन समृद्ध परत को एसिड समाधान (आमतौर पर एचएफ और एचएनओ₃ का मिश्रण) में रासायनिक विघटन के माध्यम से हटा दिया जाता है। इस विधि से एक साफ़, चमकीली और अपेक्षाकृत कम प्रतिक्रियाशील धातु की सतह प्राप्त होती है।
चतुर्थ. प्रक्रिया संयोजन रणनीतियाँ और चयन सिद्धांत वास्तविक उत्पादन में, एक एकल विधि अक्सर दक्षता और गुणवत्ता को संतुलित करने के लिए संघर्ष करती है; इसलिए, संयुक्त प्रक्रियाओं को आमतौर पर अपनाया जाता है: · पारंपरिक संयोजन मार्ग: मध्यम से निम्न तापमान पर बनने वाली ऑक्साइड परतों के लिए, "मैकेनिकल डीस्केलिंग (वैकल्पिक) + एसिड पिकलिंग" या "पिघला हुआ नमक स्नान + एसिड पिकलिंग" का संयोजन आमतौर पर उपयोग किया जाता है। अर्थात्, बाहरी पैमाने के अधिकांश हिस्से को पहले यंत्रवत् या पिघले हुए नमक स्नान के माध्यम से तोड़ दिया जाता है और हटा दिया जाता है, इसके बाद अवशिष्ट ऑक्साइड परत और ऑक्सीजन समृद्ध प्रसार परत को भंग करने के लिए एसिड अचार बनाया जाता है, जिससे एक समान, साफ सतह प्राप्त होती है। · उच्च तापमान ऑक्साइड परत उपचार: 600 डिग्री से ऊपर के तापमान पर गर्म करने से बनने वाली घनी ऑक्साइड परतों और प्रसार परतों के लिए, आम तौर पर अत्यधिक संक्षारक पिघला हुआ नमक स्नान पूर्व उपचार की आवश्यकता होती है, इसके बाद एसिड अचार बनाना होता है। हालाँकि, लगभग 600 डिग्री पर थोड़े समय के लिए गर्म करने से बनी कुछ पतली ऑक्साइड परतों के लिए, यदि उनकी संरचना घनी नहीं है, तो उन्हें पारंपरिक एसिड पिकलिंग प्रक्रिया का उपयोग करके एक ही चरण में हटाया जा सकता है।
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