उच्च प्रदर्शन निकल बार 4 मिमी-150 मिमी की परिभाषा
उच्च प्रदर्शन निकेल बार 4 मिमी - 150 मिमी बेलनाकार बार हैं जो मुख्य रूप से निकल (औद्योगिक - ग्रेड नी 99% से अधिक या उसके बराबर, उच्च {{7%) शुद्धता नी 99.99% से अधिक या उसके बराबर से बने होते हैं। उनमें एक चेहरा केंद्रित घन क्रिस्टल संरचना होती है, कमरे के तापमान पर एक चांदी-सफेद धात्विक चमक प्रदर्शित होती है, और उनमें फेरोमैग्नेटिक गुण होते हैं।
इसके उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध, उत्कृष्ट विद्युत और तापीय चालकता और बेहतर कार्यशीलता के कारण, इसका उपयोग रासायनिक इंजीनियरिंग, इलेक्ट्रॉनिक्स, एयरोस्पेस और परमाणु ऊर्जा जैसे उच्च-स्तरीय औद्योगिक क्षेत्रों में व्यापक रूप से किया जाता है।
बुनियादी भौतिक और रासायनिक गुण
- दिखावट: चमकदार फ़िनिश के साथ सिल्वर-सफ़ेद धात्विक; क्रिस्टल संरचना फलक केन्द्रित घनीय होती है।
- घनत्व: लगभग 8.9 ग्राम/सेमी³।
- गलनांक: लगभग 1455 डिग्री (स्रोतों में मामूली भिन्नताएं मौजूद हैं, आम तौर पर 1450-1455 डिग्री के बीच)।
- विद्युत और तापीय चालकता: धातुओं में उत्कृष्ट, तापीय चालकता 60 W/(m·K) तक पहुंचने के साथ, इलेक्ट्रोड और ताप संचालन करने वाले घटकों के लिए उपयुक्त।
- चुंबकीय गुण: लौहचुंबकीय, 360 डिग्री के आसपास क्यूरी बिंदु के साथ; इस तापमान से ऊपर चुंबकत्व खो देता है।
- संक्षारण प्रतिरोध:
क्षारीय वातावरण में असाधारण रूप से स्थिर, विशेष रूप से केंद्रित क्षार (उदाहरण के लिए, NaOH, KOH) के लिए प्रतिरोधी, जो इसे क्षार विनिर्माण उद्योग में एक महत्वपूर्ण सामग्री बनाता है।
तटस्थ नमक समाधान, समुद्री जल, फैटी एसिड और इसी तरह के मीडिया में भी अच्छा प्रदर्शन करता है।
हालाँकि, यह ऑक्सीकरण करने वाले एसिड (उदाहरण के लिए, नाइट्रिक एसिड, ऑक्सीकरण एजेंट युक्त सल्फ्यूरिक एसिड) में खराब संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शित करता है।
प्रमुख भौतिक और यांत्रिक गुण
Fe, Cu, Mn, Si, C, आदि सहित अशुद्धियों के साथ Ni200 निकेल सामग्री 99.6% से अधिक या उसके बराबर;
Ni 201 में बेहद कम कार्बन सामग्री है, जो उच्च तापमान वाले अंतरग्रैनुलर संक्षारण प्रतिरोध के लिए उपयुक्त है; उच्च शुद्धता वाले निकल में कुल अशुद्धियों को 10 पीपीएम स्तर पर नियंत्रित किया जा सकता है।
भौतिक गुण:
घनत्व 8.90 ग्राम/सेमी³, गलनांक 1453 डिग्री; तापीय चालकता लगभग 90 W/(m·K), विद्युत चालकता लगभग 14% IACS; कमरे के तापमान पर लौहचुम्बकीय, क्यूरी तापमान 358 डिग्री; रैखिक विस्तार गुणांक 13.3×10⁻⁶/ डिग्री ;
यांत्रिक गुण (घोषित स्थिति)
| सामग्री ग्रेड |
तन्यता ताकत |
बढ़ाव |
बैगन कठोरता |
|---|---|---|---|
| Ni200) | 380 एमपीए से अधिक या उसके बराबर | 40% से अधिक या उसके बराबर | 70 एचबी से कम या उसके बराबर |
| Ni201 | 370 एमपीए से अधिक या उसके बराबर | 40% से अधिक या उसके बराबर | 68 एचबी से कम या उसके बराबर |
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***ठंडे ढंग से काम करने से ताकत में काफी वृद्धि हो सकती है (उदाहरण के लिए, ठंडी परिस्थितियों में 650 एमपीए से अधिक हो सकती है), लेकिन लचीलापन कम हो जाता है; एनीलिंग आंतरिक तनाव को खत्म कर सकती है और लचीलापन बहाल कर सकती है। |
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संक्षारण प्रतिरोध:
मजबूत क्षार (उदाहरण के लिए, NaOH समाधान, पिघला हुआ क्षार) में असाधारण संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शित करता है, अधिकांश मिश्र धातुओं से बेहतर प्रदर्शन करता है; तटस्थ लवणों, शुष्क वायुमंडलों और कार्बनिक अम्लों में स्थिर रहता है; गैर-ऑक्सीकारक अम्लों के प्रति सीमित प्रतिरोध दर्शाता है; मजबूत ऑक्सीकरण एसिड (केंद्रित नाइट्रिक एसिड) द्वारा संक्षारण के लिए अतिसंवेदनशील; 315 डिग्री से नीचे हवा में एक सघन ऑक्साइड फिल्म बनाता है, जो अच्छा ऑक्सीकरण प्रतिरोध प्रदान करता है; सल्फर युक्त उच्च तापमान वाले वातावरण में प्रदर्शन में गिरावट आती है।
उच्च प्रदर्शन निकल बार 4 मिमी-150 मिमी के प्राथमिक अनुप्रयोग क्षेत्र
1. रासायनिक उद्योग
मजबूत क्षार संक्षारण प्रतिरोधी घटकों के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है, जैसे कि रिएक्टर पोत अस्तर, बाष्पीकरणकर्ता हीटिंग ट्यूब, वाल्व और पंप बॉडी।
2. इलेक्ट्रॉनिक्स और वैक्यूम डिवाइस
एनोड, सेपरेटर, इलेक्ट्रोड सपोर्ट और लीड का उत्पादन करने के लिए उपयोग किया जाता है। इसकी कम गैस घुलनशीलता इसे उच्च वैक्यूम वातावरण के लिए उपयुक्त बनाती है।
3. एयरोस्पेस और ऊर्जा
विमान इंजन ईंधन नोजल और परमाणु रिएक्टर नियंत्रण रॉड गाइड ट्यूब जैसे उच्च तापमान, उच्च विश्वसनीयता घटकों में उपयोग किया जाता है।
4. चिकित्सा उपकरण
इम्प्लांटेबल डिवाइस या डायग्नोस्टिक उपकरण घटकों के निर्माण के लिए परिशुद्धता -ग्रेड निकल छड़ें (व्यास 0.8-50 मिमी)।
उच्च प्रदर्शन निकल बार 4 मिमी-150 मिमी के चयन और प्रसंस्करण दिशानिर्देश
- ग्रेड चयन: उच्च तापमान या वेल्डिंग अनुप्रयोगों के लिए, Ni201 (निम्न कार्बन, इंटरग्रेनुलर जंग के प्रतिरोधी) को प्राथमिकता दें;
- परिवेशीय तापमान वाले मजबूत क्षारीय वातावरण या सामान्य संरचनात्मक उपयोग के लिए, Ni200 का चयन करें;
- इलेक्ट्रॉनिक्स/सेमीकंडक्टर अनुप्रयोगों के लिए, उच्च शुद्धता वाले Ni270 का उपयोग करें;
- वेल्डिंग: TIG (GTAW) शुद्ध निकल भराव तार (उदाहरण के लिए, ERNi-1) का उपयोग करने की अनुशंसा की जाती है; Ni200 को आमतौर पर पोस्ट-वेल्ड ताप उपचार की आवश्यकता नहीं होती है।
- मशीनिंग: शुद्ध निकल उच्च कठोरता और औजारों से चिपकने की प्रवृत्ति प्रदर्शित करता है; तेज काटने वाले उपकरण, कम काटने की गति और पर्याप्त शीतलन स्नेहन की आवश्यकता होती है।
- भंडारण: सतह के ऑक्सीकरण और मलिनकिरण को रोकने के लिए आर्द्र या सल्फर युक्त वातावरण से बचें।
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